- MOCVD - metal organic chemical vapour deposition
- химическое осаждение паров металлоорганических соединений
Терминологический словарь МИД России. EdwART. 2011.
MOCVD - metal organic chemical vapour deposition
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Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapour deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Metalorganic chemical vapor deposition — (MOCVD) is a chemical vapor deposition process that uses metalorganic source gases. For instance, MOCVD may use tantalum ethoxide (Ta(OC 2H 5) 5), to create tantalum pentoxide (Ta 2O 5), or Tetrakis Dimethyl Amino Titanium(IV) (TDMAT) to create… … Wikipedia
Metalorganic vapour phase epitaxy — (MOVPE), also known as organometallic vapour phase epitaxy (OMVPE) or metalorganic chemical vapour deposition (MOCVD), is a chemical vapour deposition method of epitaxial growth of materials, especially compound semiconductors from the surface… … Wikipedia
Chemische Gasphasenabscheidung — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und… … Deutsch Wikipedia
Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung — Die metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (englisch metal organic chemical vapour deposition oder metallo organic chemical vapour deposition, MOCVD) ist ein Beschichtungsverfahren aus der Gruppe der chemischen Gasphasenabscheidung… … Deutsch Wikipedia
Dimethyl telluride — Dimethyl telluride … Wikipedia
Tetrakis(dimethylamino)titan — Strukturformel Allgemeines Name Tetrakis(dimethylamino)titan Andere Namen TDMAT … Deutsch Wikipedia
Multijunction photovoltaic cell — Multi junction solar cells or tandem cells are solar cells containing several p n junctions. Each junction is tuned to a different wavelength of light, reducing one of the largest inherent sources of losses, and thereby increasing efficiency.… … Wikipedia
Gallium(II) telluride — Chembox new Name = Gallium(II) telluride ImageFile = Gallium(II) telluride.jpg ImageName = Gallium(II) telluride OtherNames = gallium telluride Section1 = Chembox Identifiers CASNo = 12024 14 5 Section2 = Chembox Properties Formula = GaTe… … Wikipedia
